尼康Nikon Eclipse LV150N正置工業顯微鏡為通用正置顯微鏡,適用于反射光和/或透射光應用。非常適用于具有高度放大要求的非平整或未鑲嵌樣品。
尼康Nikon Eclipse MA100倒置顯微鏡結構緊湊,堅固耐用,可滿足高放大倍數需求。其非常適合進行平整樣品表面的鑲嵌樣品分析,并可配備使用明場(BF)、暗場(DF)、微分干涉對比(DIC)和偏振光(POL)等光源進行多種分析。
尼康Nikon MA200 Eclipse倒置顯微鏡結構緊湊,堅固耐用,可滿足高放大倍數需求。其非常適合進行平整樣品表面的鑲嵌樣品分析,并可配備使用明場(BF)、暗場(DF)、微分干涉對比(DIC)和偏振光(POL)等光源進行多種分析。
尼康Nikon SMZ800N變焦立體顯微鏡帶高分辨率和微距放大組件。非常適用于大型樣品分析和多焦點成像。
尼康Nikon SMZ18變焦立體顯微鏡 帶高分辨率和微距放大組件。非常適用于大型樣品分析和多焦點成像。
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